来一看，发现一个箱形装置已经静静地躺在试验场地中央。
“这就是极紫外光源？成功了？”
许黎疑惑道。
“是的，我们已经成功将该光源研制出来了，再经过我们多次重复试验以及对比论证，现在，过程极紫外光刻光源已经完成了研制，加上我能独立设计的透镜物镜及其光学系统，其性能超过目前国汉斯猫的5倍左右，如果能够配合好的其他光刻机部件，那该组装完成的光刻机可以综合提升35%左右，可以制作性能优秀的5纳米芯片......”
徐教授兴奋地解释道。
他还从来没有相关，一个工业明珠上的皇冠的一个核心部件，就这样被他们攻克了。
只要给他们时间，燧人科技也能挤进全球半导体顶尖玩家的殿堂，成为光刻机部件供应链的厂商之一。
到时候也能在半导体领域上拥有自己的话语权，即使没有拥有全套的光刻机制造技术，但是起码不至于让国内这么的被动。
“既然如此，我们也应该通知一下我们的盟友，想必他们也等急了。”
许黎一笑。
“好！”
徐华应了一声。
春城，长光电所
陈所长此刻正愁着怎么改进光刻机呢。
虽然之前已经通过花为的牵线搭桥和燧人科技搭上了，主要是合作改造现有光刻机。
而这个改造的光刻机主要是28nm的光刻机，因为现在国内的光刻机也只能勉强达到28nm工艺。
据魔都微电子透露，明年他们有望交付首台国产28纳米工艺浸没式光刻机。
算是在刚好迈在高端光刻领域的门槛，也就是现在国内的光刻科技水平还停留在中端水平。
根据光刻机工艺水平，光刻机主要划分为超高端、高端、中端、低端四个层次。
首先，光源13.5nm、节点5nm/7nm的光刻机是处于超高端层次的，全球只有这一家公司可以组装制造。
其次，光源r 浸入式，节点在7~28nm处于高端层次的。
最后，光源r/r/-ine，且节点是65nm 或90nm 的，分别处于中端、低端层次。
注意，这里的r/r指的是深紫外光刻光源。
想要制作更好的的芯片，那就得造出更好的光源，比如极紫外光源（）。
即使是这种r 28nm光刻机和公司最先进的5nm光刻机工艺有着天壤之别。
但是也能将国内的光刻水平提升到世界先进水平，完全可以满足常见的射频芯片、蓝牙芯片、功放芯片、电器的驱动芯片等绝大部分逻辑芯片的要求，以及大部分数字芯片的要求。
陈所长也听说三桑目前正在研究3nm芯片工艺的光刻机，也许很多人都以为很厉害，但是对于他这种业界的人自然知道其中的道道。
现在的7nm或5nm芯片，不是从前的含义，最准确的是牙膏厂的命名，只是它也学坏了。
芯片的纳米制程并不是真的几纳米，更多是一种更新迭代的说法。
上一代可能是4nm，下一代根据摩尔定律乘以根号7，差不多3nm。
以前的制程是指晶体管的宽度，现在则是晶体管的沟道宽度，就出了这种个位数的纳米制程。
就像目前三桑研究的3nm光刻机，由于极紫外光刻技术受到光电效应的影响，可能其实际线精度在十几纳米或20纳米。
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